다아라 매거진 _ 2018.02

제품리뷰

NI, 고집적도 소스 측정 장치(SMU) PXIe-4163

NI, 고집적도 소스 측정 장치(SMU) PXIe-4163 - 다아라매거진 제품리뷰

내쇼날인스트루먼트(이하 NI)가 고집적도 소스 측정 장치(SMU) PXIe-4163을 발표했다. 이 제품은 테스트 RF, MEMS, 혼합 신호 및 기타 아날로그 반도체 부품을 테스트하기 위한 기존의 NI PXI SMU보다 6배 향상된 DC 채널 집적도를 제공한다.

NI의 글로벌 세일즈 및 마케팅 부사장인에릭스타크로프(Eric Starkloff)는 "5G, IoT(사물 인터넷), 자율주행차처럼매우 획기적인 기술로 인해, 반도체 생산업체는 개발에서 양산에 이르기까지 더 효율적인 반도체 테스트 방식을 발전시키고 도입해야 하는 부담을 지속적으로 안고 있다”라고 말하고, “반도체 테스트는 NI가 전략적으로 주력하는 분야이다. 당사는 반도체 제조업체가 주요 당면 과제를 해결할 수 있도록 소프트웨어 플랫폼과 PXI의 기능을 확장하고 있으며, 이 최신 PXI SMU가 그 대표적인 예이다"라고 밝혔다.

반도체 제조업체는 양산 라인의 비용과 사용 공간을 활용해 스루풋 및 성능에 대한 반도체 테스트 시스템(STS)을 빠르게 도입하고 있다. 새로 출시된 PXIe-4163 SMU는 이러한 기능을 더욱 보완한다. 이 제품은 DC 채널 집적도를 증가시켜 다중 사이트 애플리케이션의 병렬 처리 기능을 높이고, 즉시 생산 가능한 폼 팩터의R&D 등급 측정 품질을 향상시킨다. 엔지니어는 이러한 조합을 활용하여 검증단계와양산 테스트에서 동일한 장치를 사용할 수 있으며, 이는 측정 상관관계 분석으로 인한 문제(Data Correlation) 를 줄이고 제품 출시 기간을 단축해준다.

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